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JF-2010酸铜光亮剂 购买在 天津
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JF-2010酸铜光亮剂

JF-2010酸铜光亮剂

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描述

一、 特性
1. 快速光亮和特高的填平度、光亮度。
2. 光泽范围广,.广泛的电流密度范围都可得到镜面光亮镀层;低电流密度区也可得到极高的填平光亮度。
3. 工作温度范围特高,15~40℃ 都可得到较好的效果。
4. 容杂质能力强,镀层不易起针孔、麻点、白雾。
5. 操作简便,光剂消耗量少。
6. 氯离子容忍大。光亮剂稳定性高,。
7. 进口原料,质量可靠;价格优惠,性价比高。
二、应用范围:
大小五金工件或锌压铸件如灯饰、眼镜、首饰、餐具等。适用于塑胶、锌合金铸件、铝及合金挤压拉伸件、钢铁及铜合金等基材上酸性电镀铜;印刷电路板高整平性酸性镀铜等。
一般泛用无任何工艺限制。
三、使用方法:使用方法参见表1。
表1 槽液组成及作业条件

名称 使用范围 标准建议 备注
硫酸铜 150-230 g/L 200 g/L 印刷线路板镀铜建议硫酸铜含量为75g/l
硫酸 50-90 g/L 70 g/L 印刷线路板镀铜建议硫酸含量为110g/l
氯离子 60-150 mg/L 70 mg/L
2010MU 4-10 ml/L 5 ml/L
2010A 0.4-1 ml/L 0.8 ml/L
2010B 0.2-0.8 ml/L 0.4 ml/L
阴极电流密度 1-5 A/dm 2
阳极电流密度 2 A/dm 2
浴温 20-40 ℃ 25 ℃
搅拌 强烈、均匀的空气搅拌
阳极 磷铜 (必须使用钛蓝和阳极袋)

1 、主成份:当铜或硫酸的浓度太低时高电位容易产生树枝状和烧焦。硫酸铜最好维持在 180 -200g /L 左右 , 硫酸维持在 65g /L 以上。
2 、氯离子:太低时低电区的平整会变差 , 太多时也会造成整平不佳甚至产生麻点。 氯离子补给可使用氯化钠(氯离子 1mg/L 所需氯化钠为 1.7mg/L )。
3 、光泽剂: 2010MU 太少整体光泽整平不足 , 太多则光泽会出现白雾。
2010A 太少整体光泽会变弱 , 太多则高区容易有树枝状。
2010B 太少高区光泽不良 , 过多低区光泽不良。
4 、温度:最适合的温度为 25 ℃。
依照现场情况亦可在 25 -40 ℃ 作业 , 但光剂的消耗量会增加。
5 、搅拌:搅拌不充分时容易发生烧焦(请强烈并均匀的搅拌)。
6 、过滤:连续过滤 , 使用活性碳会除去相当程度的光剂。
7 、电流:必须以镀件的形状及作业条件等因素来决定。
电流密度不同则镀层特性及光剂的消耗量会改变。
电流密度低时光剂的消耗量会增加 , 整平变差、内应力减少、
硬度稍微提高现象。
四.镀液的配制:
(一)赫尔槽试验
1. 赫尔槽中放入180 ml纯水。2. 小心地慢慢加入所需量8 mL的硫酸,然后加入40g硫酸铜,搅拌至完全溶解,再缓慢加入1ml 2%的NaCl溶液。4. 待液温降至30℃以下时,加入2010MU 1 ml,2010A 0.16 ml,2010B0.08 ml。5. 以电流密度2A进行6分钟的电解,铜阳极生成一层均匀致密的黑膜。6. 试镀正常后,即可投入生产。
(二)槽镀
1. 预备槽中放入总体积的9/10体积的纯水。2. 小心地慢慢加入所需量40 mL/L的硫酸,然后加入200 g/L硫酸铜,搅拌至完全溶解,再缓慢加入116mg/L AR级NaCl。3. 加入2~3 g/L的活性碳,鼓气充分搅拌1~2小时,静置使活性碳沉淀,经二至三级过滤机过滤后,移至工作镀槽。4. 待液温降至30℃以下时,加入2010MU 5 ml/L,2010A 0.8 ml/L,2010B 0.4 ml/L。5. 试镀正常后,即可投入生产
五、 管理方法:
成分:平时只须分析硫酸铜和硫酸的成份。
氯离子会随着电解而减少 , 对金属不纯物(铁、镍、锌)较不敏感 ,
但是对氯化物和一些接口活性剂、铬则极为敏感。
光剂:消耗量会因电流密度、温度、汲出等因素不同而影响。参考如下:
2010MU
10-50ml/KA · H
2010A
80-100 ml/KA · H 把
2010B
60-80 ml/KA · H
当活性碳处理后须再重建议或补充相当程度的光剂。
简易故障排除方法(须其它基本条件合乎标准)
低区起白雾
2010A 不足 , 2010MU 或 2010B 过量,补充 2010A剂
平整性不良
2010MU 不足或氯离子太少
高区烧焦
2010A 过量或 2010B 不足
低区镀层光泽不良
2010A 不足或 2010B 过量.

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